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测试mos管和场效应管时的注意事项
www.kiaic.com/article/detail/277.html 2018-03-28
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为了构成集成电路电阻,可以淀积一层具有阻值的薄膜在硅衬底上,然后运用图形曝光技术和刻蚀定出其图样,也可以在生长于硅衬底上的热氧化层上开窗,然后写入(或是涣散)相反导电型杂质到晶片内,图14.3闪现运用后者方法构成的两个电阻的顶视图和截面图,一个是...
www.kiaic.com/article/detail/296.html 2018-03-28
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在CMOS中,阱可为单阱(single well)、双阱(twin well)或是倒退阱(retrograde well).双阱工艺有一些缺陷,如需高温工艺(超越1 050℃)及长扩散时间(超越8h)来到达所需2μm~31'm的深度,在这个工艺中,外表的掺杂浓度是最高的,掺杂浓度随着深度递加,为了...
www.kiaic.com/article/detail/297.html 2018-03-28
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功率开关器件在电力电子设备中占领着中心位置,它的牢靠工作是整个安装正常运转的根本条件。功率开关器件的驱动电路是主电路与控制电路之间的接口,是电力电子安装的重要局部。它对整个设备的性能有很大的影响,其作用是将控制回路输出的控制脉冲放大到足以驱动...
www.kiaic.com/article/detail/298.html 2018-03-28
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MOSFET按比例减少MOSFET尺寸的缩减在一开端即为一持续的趋向.在集成电路中,较小的器件尺寸可到达较高的器件密度,此外,较短的沟道长度町改善驱动电流(ID~1/L)以及工作时的特性,但是,由于器件尺寸的缩减,沟道边缘(如源极、漏极及绝缘区边缘)的扰动将变...
www.kiaic.com/article/detail/300.html 2018-03-28
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mos在控制器电路中的工作状态:开经过程(由截止到导通的过渡过程)、导通状态、关断过程(由导通到截止的过渡过程)、截止状态。Mos主要损耗也对应这几个状态,开关损耗(开经过程和关断过程),导通损耗,截止损耗(漏电流惹起的,这个忽略不计),还有雪崩能...
www.kiaic.com/article/detail/301.html 2018-03-28
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(1)MOS管是电压控制元件,而三极管是电流控制元件。在只允许从信号源取较少电流的状况下,应选用MOS管;而在信号电压较低,又允许从信号源取较多电流的条件下,应选用三极管。(2)电力电子技术中提及的单极器件是指只靠一种载流子导电的器件,双极器件是指靠两种...
www.kiaic.com/article/detail/304.html 2018-03-28
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场效应管场效应管是应用电场效应来控制电流变化的放大元件。它与晶体管相比,具有输入阻高、噪声低、热稳定性好等优点,因此得到了疾速开展与应用。场效应管与晶体管同为放器件,但工作原理不同:晶体管是电流控制器件,在一定条件下,其集电极电流受基极电控制...
www.kiaic.com/article/detail/305.html 2018-03-28
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绝缘栅双极型晶体管的原理,分类,优势与缺点
www.kiaic.com/article/detail/306.html 2018-03-28
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假如CMOS电路的负载(执行元件)是继电器,则电路必需具有较大的带负载才能。图7-6所示为非门驱动一个分立元件的开关放大器件的接口电路。中三极管的集电极负载为继电器KA线圈。其工作电流为lOOmA。若晶体管的β=25,则需求4mA的基极电流。这对与非门来说是个拉...
www.kiaic.com/article/detail/311.html 2018-03-28
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场效应管的特点足由栅极电压U(;控制其漏极电流ID和普通双极型晶体管相比较,场效应管具有输入阻抗高、噪声低、动态范围大、功耗小、易于集成等特点。场效应管的基本工作原理如图4-24所示(以结型N沟道管为例)。由于栅极G接有负偏压(-UG),在G附近形成耗尽层...
www.kiaic.com/article/detail/313.html 2018-03-28
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场效应管较三极管娇弱,使用不当很容易损坏,因此使用时应特别注意以下事项。 ①应根据不同的使用场合选用适当型号的场效应管。常用mos场效应管的主要用途见表3-8。 ②场效应管,尤其是绝缘栅场效应管,输入阻抗非常高,不用时应将各电极短接,以免栅极感...
www.kiaic.com/article/detail/320.html 2018-03-28
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在图2-31(a)中,s表示Source,源极;D表示Drain,漏极;G表示Gate,栅极。在漏极和源极之间加上一个正向电压后,N型半导体中的多数载流子(电子)便能够导电了。这种导电沟道是N型的场效应管,称为N沟道结型场效应管。
www.kiaic.com/article/detail/321.html 2018-03-28
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N沟道加强型MOSFET的沟道构成及符号如图2-35所示,其中图2-35 (a)所示是在一块杂质浓度较低的P型半导体衬底上制造两个高浓度的N型区,并分别将它们作为源极s和漏极D,然后在衬底的外表制造一层Si02绝缘层,并在上面引出一个电极作为栅极G。图2-35(b)所示是其在...
www.kiaic.com/article/detail/322.html 2018-03-28