光刻步骤类似于图案绘制的过程。而半导体的生产制造，可以理解为是重复的堆叠和...光刻步骤类似于图案绘制的过程。而半导体的生产制造，可以理解为是重复的堆叠和切割。利用光刻工艺，在想要切割的位置绘制图案。
当Vg从0V开始上升的时候，p衬底中的多子空穴会被赶离栅区从而留下负电荷（空穴...当Vg从0V开始上升的时候，p衬底中的多子空穴会被赶离栅区从而留下负电荷（空穴无法移动，实际上是电子的移动，电子从衬底被抽取上来，与p型半导体中的受主杂质例如...
衬底偏置效应，就是当衬底（body/substrate）和源（source）之间的电势差Vbs不...衬底偏置效应，就是当衬底（body/substrate）和源（source）之间的电势差Vbs不为零的时候，所产生的一些效应的统称。
KNH3625A具有低导通内阻，抗冲击能力强，可靠性高的特点，是一款能够满足工业级...KNH3625A具有低导通内阻，抗冲击能力强，可靠性高的特点，是一款能够满足工业级的场效应管型号，能够高效提升电路品质。
如图所示，Q9 栅极（G）通过100k电阻上拉到12V，源级（S）直接连接至12V电源侧...如图所示，Q9 栅极（G）通过100k电阻上拉到12V，源级（S）直接连接至12V电源侧，漏极（D）连接到被控设备，被控设备两端并联二极管，用于关断设备后，释放被控设备...
