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在1N4148二极管的表面会有标识,通常是一个黑色条纹和一个金色的圆形,黑色条纹表示负极,金色圆形表示正极。将万用表调到二极管测试档位,使用黑色探针接触1N4148的阳极,红色探针接触1N4148的阴极,如果显示正向电压,则表明该端口为阳极;如果显示负向电压或...
www.kiaic.com/article/detail/4721.html 2024-01-12
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KNX2810A是一款漏源击穿电压100V,漏极电流150A的场效应管,RDS(ON)=5.0mΩ(typ.)@VGS=10V ,能够替代hy3210进行使用,高效优质,在锂电池保护板、电动车控制器领域热销,能够最大限度地减少导电损耗,最小化开关损耗,确保锂电池保护板的性能稳定可靠。
www.kiaic.com/article/detail/4720.html 2024-01-11
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由于器件的引线框架(包括裸露漏极焊盘)直接焊接到覆铜区,这导致热量主要通过PCB进行传播。而器件的其余部分均封闭在塑封料中,仅能通过空气对流来散热。因此,热传递效率在很大程度上取决于电路板的特性:覆铜的面积大小、层数、厚度和布局。
www.kiaic.com/article/detail/4719.html 2024-01-11
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取下MOS管后,将MOS的3个电极首先放电。用镊子或导线短接MOS管3个电极GDS,使其完全放电处于截止状态。(出厂状态)将万用表调至二极管档,将红表笔接在MOS的S极,黑表笔接在D极,这时寄生二极管是导通状态,万用表会显示电压值,一般是0.4V~0.9V之间。
www.kiaic.com/article/detail/4718.html 2024-01-11
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KNX3303B是一款漏极电流90A,漏源击穿电压30V的场效应管,RDS(ON)=2.6mΩ(typ.)@VGS=10V ,极低导通电阻RDS(On)能够减少导通损耗,还具有低Crss、快速切换、100%雪崩测试、改进的dv/dt能力。封装形式:DFN5*6。
www.kiaic.com/article/detail/4717.html 2024-01-10
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本电路由USB口直接供电。电路设置了两个触摸片,用于检测MOS管的好坏。将两个触摸片的一端并联。与MOS管栅极连接。两个触片的另外一端分别接在电源正极和电源负极。当手指触控CK1时,由人体的手指作为导体使MOS管的栅极电位升高,此时MOS管导通,LED发光。
www.kiaic.com/article/detail/4716.html 2024-01-10
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首先看管子有无裂纹,其次看绝缘层是否完整,优质的MOS管应该具有光滑平整的表面,无裂纹、崩坑、划痕等缺陷;同时,应该注意检查MOS管的引脚是否松动或脱落,引线的焊接点有无脱焊虚焊等缺陷,以及外壳是否完好无损。
www.kiaic.com/article/detail/4715.html 2024-01-10
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KNX3208A场效应管漏源击穿电压85V,漏极电流100A,RDS(ON),typ.=6.5mΩ@VGS=10V,采用专有新沟槽技术,具有低门电荷减小开关损耗、快恢复体二极管等特性,能够替代145N08、055N08、063N08型号进行使用,封装形式:TO-252、TO-263、TO-220、TO-3P,多种封装形式...
www.kiaic.com/article/detail/4714.html 2024-01-09
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第一种NMOS管为高电平导通,低电平截断,Drain端接后面电路的接地端;第二种为PMOS管典型开关电路,为高电平断开,低电平导通,Drain端接后面电路的VCC端。
www.kiaic.com/article/detail/4713.html 2024-01-09
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LM567是一种解码集成电路,其内部结构如下图1所示。LM567内部包含了两个鉴相器、放大器、电压控制振荡器VCO等单元。
www.kiaic.com/article/detail/4712.html 2024-01-09
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KNX3206A场效应管漏源击穿电压60V,漏极电流110A,RDS(ON)=6.5mΩ(典型值)@VGS=10V,低RDS(ON)以最大限度地减少导电损耗,能够替代irf3205以及80nf70型号进行使用,用于快速开关应用的低栅极电荷,优化的BVDSS能力。封装形式:TO-252、TO-263、TO-220、T...
www.kiaic.com/article/detail/4711.html 2024-01-08
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去耦电路指的是在多级放大电路(集成电路芯片内部大多也是由各种多级放大电路组成)的供电电源端对地所加的旁路电容。其容量大可到几十、上百微法 ,小也要0.1,0. 01微法。
www.kiaic.com/article/detail/4710.html 2024-01-08
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去耦电容法是常用的电路去耦合方法。它主要是通过添加去耦电容,将交流信号分离开来,从而达到抑制噪声和干扰的效果。去耦电容一般安装在信号源和放大器之间,在信号源输入端和输出端分别添加一个电容,可以有效抑制信号源与放大器之间的干扰。
www.kiaic.com/article/detail/4709.html 2024-01-08
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KIA2803A场效应管采用沟槽加工工艺设计,实现极低的导通电阻,漏源击穿电压30V,漏极电流150A,RDS(on)=2.2mΩ@VGS=10V,提供低栅极电荷的优异RDS(ON),KIA2803A能够替代nce30h15k型号进行使用,封装形式:TO-220,TO-263。
www.kiaic.com/article/detail/4705.html 2024-01-08