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KNX4360A场效应管是一款性能优越的器件,漏源击穿电压高达600V,漏极电流4.0A,RDS(ON)为1.9Ω(在VGS=10V,ID=2A时),表现出卓越的导通特性,这款场效应管具有快速切换能力,能在高频率下稳定工作,适合应用于高频开关电源、UPS、充电器以及电子镇流器等场...
www.kiaic.com/article/detail/4919.html 2024-04-25
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沟道是指场效应晶体管中源区和漏区之间的一薄半导体层。如MOS结构中当施加外部电场时在半导体表面形成的积累层及反型层。沟道--场效应管内部的导电路径,它连接了源极和漏极。当施加适当的电压或电流时,沟道将成为电子或空穴的主要传导路径。
www.kiaic.com/article/detail/4917.html 2024-04-25
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KIA30N03B场效应管具备出色的性能参数,漏源击穿电压30V,漏极电流30A,采用先进的高细胞密度沟槽技术,具有超低的栅极电荷,RDS(开)参数为15m? @ VDS=30V,较低的导通电阻,有效减少能量损耗,出色的Cdv/dt效应下降,能够有效应对瞬态电压的变化,保障系统...
www.kiaic.com/article/detail/4916.html 2024-04-24
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KIA30N06B场效应管是一款先进高密度沟槽技术的电子元件,漏源击穿电压60V,漏极电流25A,具有出色的性能指标,?在VDS为60V时,其RDS(on)仅为25mΩ,表现出超低的电阻特性、良好的Cdv/dt效应下降,为电路提供了更稳定的工作环境、100%的EAS保证具有更高的可靠性...
www.kiaic.com/article/detail/4911.html 2024-04-22
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KIA6035A场效应管的漏源击穿电压高达350V,漏极电流可达11A,适用于各种高压应用场合,RDS(ON)仅为0.38Ω,在10V的VGS下表现出色、低栅极电荷,仅为15nC,有助于提高开关速度和效率、高坚固性和快速切换能力,能够在各种恶劣环境下稳定工作、还具有指定的雪崩...
www.kiaic.com/article/detail/4908.html 2024-04-19
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KNX4820B场效应管漏源击穿电压200V,漏极电流9A,采用了专有新型平面技术,是一款高性能的器件,RDS(ON),典型=250mΩ@VGS=10V,保证了稳定的工作状态、低栅极电荷的最小化设计,有效降低了开关损耗,提升了能效、配备快速恢复体二极管,有效提高器件的响应速...
www.kiaic.com/article/detail/4905.html 2024-04-18
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RDS(ON)=3.2mΩ (typ.) @ VGS=-10V漏极电流 (ID) :-100A漏源击穿电压 (VDS(ON)) :-40V栅极电荷(Qg):115 nC功耗 (PDM) :83W
www.kiaic.com/article/detail/4902.html 2024-04-17
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P30v MOS,KPE4403A参数引脚图漏极电流 (ID) :-5.0A漏源击穿电压 (VDS(ON)) :-30V栅极电荷(Qg):6.5 nC功耗 (PDM) :1.5WRDS(on)=40mΩ(typ)@ VGS=10 V
www.kiaic.com/article/detail/4899.html 2024-04-16
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P60v MOS管,60V PMOS管-KPX8106A参数引脚图RDS(ON)=26mΩ (typ.) @ VGS=-10V漏极电流 (ID) :-30A漏源击穿电压 (VDS(ON)) :-60V功耗 (PDM) :57W栅极电荷(Qg):40 nC
www.kiaic.com/article/detail/4896.html 2024-04-15
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KNX4665B场效应管具有高击穿电压、低导通电阻和低开关损耗等特点,漏源击穿电压高达650V,漏极电流7A,能够承受较大的电压压力、良好的导电性能,RDS(ON)的典型值为1.1Ω,在VGS=10V时能够实现较低的导通电阻,具有较高的工作效率,还能够实现低栅极电荷最小...
www.kiaic.com/article/detail/4890.html 2024-04-11
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KIA7610A场效应管漏源击穿电压100V,漏极电流25A,RDS(开)=32mΩ,采用了先进的沟槽加工技术,实现极低的导通电阻,提供杰出的性能、结工作温度175℃,具备较高的耐高温性能,适用于各种苛刻的工作环境、快速的开关速度在电路转换中能够迅速响应,确保电路效...
www.kiaic.com/article/detail/4887.html 2024-04-10
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场效应管-FET和MOS管-MOSFET在结构、工作原理和应用方面有所区别。场效应管(FET)是一个更广泛的概念,包括结型场效应管(JFET)和金属-氧化物半导体场效应管(MOS-FET);在MOS管(MOSFET)中,栅极由金属层(M)、氧化层(O)和半导体材料(S)组成,这种结构使得MOS管在低...
www.kiaic.com/article/detail/4882.html 2024-04-09
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KIA6N70H场效应管漏源击穿电压700V、漏极电流5.8A,RDS(on)typ为1.8Ω@VGS=10V,具有低栅电荷(典型16NC)、高耐用性、快速切换和雪崩测试100%、具备提高dv/dt能力的特点,多种封装形式:TO-251、TO-252、TO-220F,方便应用。
www.kiaic.com/article/detail/4881.html 2024-04-08
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KNX2804C场效应管漏源击穿电压40V,漏极电流150A,采用先进的沟槽MOS技术,具有极低的导通电阻RDS(接通),能够实现高效的电路控制;2804场效应管RDS(ON)为3.0mΩ,在10V的VGS条件下表现出优异的性能,在电机控制、驱动系统、电池管理以及不间断电源等领域有...
www.kiaic.com/article/detail/4878.html 2024-04-07